武漢精立電子技術(shù)有限公司,武漢精測電子集團(tuán)股份有限公司申請一項(xiàng)名為“缺陷樣本生成方法、裝置、設(shè)備及可讀存儲介質(zhì)“，公開號 CN202410681729.3 ，申請日期為 2024 年 5 月。
專利摘要顯示，本發(fā)明提供一種缺陷樣本生成方法、裝置、設(shè)備及可讀存儲介質(zhì)。該方法包括：基于多個(gè)圖像對分別進(jìn)行圖像融合，得到多張理想缺陷圖像，其中，一圖像對包括一張背景圖像以及一張缺陷二值圖，背景圖像與缺陷二值圖的分辨率相同，不同圖像對包含的背景圖像和/或缺陷二值圖不同;分別將多張理想缺陷圖像在顯示屏上顯示，并通過成像設(shè)備進(jìn)行取像，得到每張理想缺陷圖像對應(yīng)的取像圖像;對每張取像圖像進(jìn)行有效性判定;將有效性判定通過的取像圖像作為缺陷樣本。通過本發(fā)明，無需借助已有的缺陷樣本，實(shí)現(xiàn)了基于零缺陷樣本生成缺陷樣本。
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